ナノライティング制御装置
ナノライティングとは、シリコンや化合物半導体基板あるいはシラン系単分子薄膜がコーティングされた基板上で鋭利な先端を有するプローブをバイアス電圧を印加しながら走査することによりナノスケール酸化膜ラインパターンを描画する技術です。ナノラインの描画後、各種エッチング技術により酸化膜ラインをマスクとしたネガ型ナノ加工や酸化膜ラインのみを加工するポジ型ナノ加工が可能となります。
本装置ではマルチプローブアレイと走査型プローブ顕微鏡 (SPM) システム技術を用い、ナノ微細加工が容易に安価にかつ高スループットに卓上で実現出来る装置を目的に開発を行っています。
- 微動領域 XY: 120 μm、Z: 12 μm (16 bit 分解能)
- 粗動領域 XY: 50 mm、Z: 40 mm (0.5 μm 分解能)
- プローブピッチ: 100 μm
ピエゾ薄膜の測定
イメージングプローブによる表面形状の計測 (PZT薄膜の測定)
従来のSPM制御系にライティングプローブ制御装置とマルチプローブアレイ先端が一定に試料面へ接触させる為の制御装を加えました。
※これらの製品は科学技術振興機構 平成17～19年度地域イノベーション創出総合支援事業 (JSTイノベーションプラザ京都) における立命館大学・兵庫県立大学・住友精密工業等とのプロジェクトにて開発しております。